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低串擾低功耗硅基光開關設計 | 廣西科毅光通信科技技術解析

2025-07-11

低串擾低功耗硅基光開關技術突破


在光電子集成芯片快速發(fā)展的背景下,2×2光開關作為光信息處理和信號路由的核心器件,在通信、傳感、量子系統(tǒng)及微波光子線路中具有不可替代的作用。隨著大規(guī)模光電子集成芯片需求的激增,光開關的性能指標(如低串擾、低功耗)成為行業(yè)關注焦點。


廣西科毅光通信科技有限公司(官網(wǎng):www.m.rise-pj.com)作為專業(yè)光開關生產(chǎn)銷售企業(yè),始終聚焦光電子集成領域的技術革新。針對大規(guī)模光電子集成芯片對光開關性能的嚴苛需求,公司聯(lián)合科研團隊推出低串擾、低功耗硅基光開關解決方案,其核心技術基于高度均衡的耦合器與折疊式移相器設計,相關研究成果已發(fā)表于《Optics Letters》(2025 年第 50 卷第 1 期),為光通信、傳感及量子系統(tǒng)提供了高性能核心器件支持。



一、技術背景:2×2 光開關的性能瓶頸與突破方向

在光信息處理與信號路由中,2×2光開關是構建大規(guī)模光網(wǎng)絡的基礎單元,其性能直接影響系統(tǒng)可靠性與能效。當前主流實現(xiàn)方案存在明顯局限:

  • 微環(huán)諧振器(MRR):結構緊湊但溫度敏感性極高,需復雜溫控機制維持穩(wěn)定,難以滿足大規(guī)模集成需求;

  • 傳統(tǒng)馬赫 - 曾德爾干涉儀(MZI):雖支持寬帶路由,但存在耦合器分光不均、移相臂損耗差異大等問題,導致串擾高、功耗高,限制了其在高密度集成場景的應用。

 

廣西科毅光通信通過深入分析 MZI 開關的性能瓶頸,創(chuàng)新采用高度均衡多模干涉(MMI)耦合器折疊式高效移相器組合設計,成功突破傳統(tǒng)技術限制,實現(xiàn)了低串擾、低功耗的硅基光開關量產(chǎn)化解決方案。




二、核心技術:低串擾低功耗硅基光開關的設計創(chuàng)新

1. 整體結構設計

該硅基光開關基于 MZI 架構,核心由高度均衡 MMI 耦合器折疊式移相器組成,通過優(yōu)化波導與熱極金屬的折疊布局,實現(xiàn)高熱效率與低損耗特性。

 1.1MZI光開關的核心優(yōu)勢

·         寬帶光路由能力:與波長無關的切換特性,適用于多波長通信場景。

·         高溫度穩(wěn)定性:無需主動反饋調諧,降低系統(tǒng)復雜度。

·         低功耗設計:通過折疊波導與金屬加熱器結構優(yōu)化熱分布,顯著降低能耗。

圖1:硅基MZI光開關結構示意圖

硅基MZI光開關結構示意圖_折疊波導與金屬加熱器設計_科毅光通信(低串擾光開關技術)_www.m.rise-pj.com

(圖片說明:展示折疊波導、金屬加熱器及移相器橫截面設計,標注關鍵尺寸與材料參數(shù)。)

 

2. 高度均衡 MMI 耦合器設計

MMI 耦合器是決定 MZI 開關串擾的關鍵組件,其分光均衡性直接影響干涉消光效果。本設計通過結構優(yōu)化,實現(xiàn):

  • 寬波段低損耗:C 波段插入損耗低于 0.14 dB,1550 nm 波長下理論損耗僅 0.096 dB;

  • 高均衡性:分光不平衡度低于 0.13 dB(1550 nm 處低至 0.037 dB);

  • 工藝容忍度高:對硅波導寬度變化容忍度達 ±40 nm,兼容主流硅光制造工藝,大幅降低量產(chǎn)難度。

  • 應用價值:為大規(guī)模集成光芯片提供高穩(wěn)定性基礎組件。

 

圖2:MMI耦合器性能測試

MMI耦合器插入損耗與不均衡度測試_C波段性能數(shù)據(jù)_硅基光開關核心組件_科毅光通信技術_www.m.rise-pj.com

(圖片說明:展示不同波導寬度下的插入損耗與不均衡度曲線。)

 

3. 折疊式高效移相器設計

移相器功耗是制約光開關集成密度的核心因素,本設計采用折疊波導 + TiW 合金加熱器組合方案:

  • 低功耗:π 相移功耗(Pπ)僅約 8 mW,較傳統(tǒng)設計降低 50% 以上;

  • 高熱效率:200 nm 厚 TiW 合金加熱材料與波導尺寸精準匹配,熱場分布均勻(如圖 3d);

  • 緊湊結構:折疊布局減少占用空間,適合高密度集成。

  • 開關速度:10%-90%上升/下降時間為22μs/9μs,滿足高速通信需求。

圖3:移相器設計與熱場分析

硅基移相器設計細節(jié)_熱場分布與TiW合金加熱材料_低功耗光開關技術_科毅光通信_www.m.rise-pj.com
(圖片說明:展示波導彎曲結構、電場分布及熱場模擬結果。)



三、制造工藝與性能指標

1. 高精密制造工藝流程

 采用電子束光刻(EBL) 感應耦合等離子體刻蝕技術,關鍵參數(shù)控制:

  • 硅波導:厚度 220 nm,寬度 500 nm,特殊區(qū)域(如 1.75 μm 半徑彎曲波導)精準成型;

  • 包層與埋氧層:厚度分別控制在 2.2 μm 和 2.0 μm,確保光場約束與散熱性能;

  • 兼容深紫外(DUV)光刻工藝,滿足大規(guī)模量產(chǎn)需求。

圖4:器件制造結果

硅基光開關制造顯微鏡與SEM圖像_折疊波導與MMI結構_廣西科毅光通信科技_www.m.rise-pj.com

 (圖片說明:顯微鏡與SEM圖像展示折疊波導及MMI區(qū)域的微觀結構。)


2. 核心性能指標

經(jīng)實驗驗證,該硅基光開關綜合性能領先行業(yè)水平:

  • 低串擾:電子束光刻工藝器件串擾低于 - 35      dB,深紫外工藝器件低于 - 30 dB;

  • 低功耗:π 相移功耗僅 8 mW,大幅降低系統(tǒng)散熱壓力;

  • 快速響應:10%-90% 上升 / 下降時間分別為 22 μs/9 μs,支持高速光信號路由;

  • 低插入損耗:片上總損耗約 1.6 dB(含彎曲波導 0.3 dB、MMI 耦合器      0.3 dB 及直波導傳輸損耗)。

  • 穩(wěn)定性驗證:在寬譜光測試中表現(xiàn)出優(yōu)異的波長適應性。

 

圖5:光譜響應測試數(shù)據(jù)

硅基光開關光譜響應曲線_直通端與下載端性能對比_低串擾低功耗技術_科毅光通信_www.m.rise-pj.com 

(圖片說明:不同加熱功率條件下的輸出端口光譜響應曲線。




四、應用場景與行業(yè)價值

1. 核心應用領域

  • 光通信網(wǎng)絡:適用于數(shù)據(jù)中心高速光互聯(lián)、骨干網(wǎng)光交叉連接(OXC);

  • 光傳感系統(tǒng):支持高精度光信號路由與切換;

  • 量子信息處理:低串擾特性滿足量子態(tài)傳輸保真度要求;

  • 微波光子線路:適配寬帶信號處理需求。


2. 廣西科毅光通信產(chǎn)業(yè)化優(yōu)勢

作為專業(yè)光開關生產(chǎn)銷售商,公司將該技術轉化為量產(chǎn)產(chǎn)品時,額外實現(xiàn):

  • 成本優(yōu)化:兼容成熟硅光工藝,量產(chǎn)成本較傳統(tǒng)方案降低      30% 以上;

  • 可靠性保障:通過 - 40~+85寬溫測試,滿足 Telcordia GR-468 可靠性標準;

  • 定制化服務:可根據(jù)客戶需求調整端口配置、封裝形式(詳情訪問www.m.rise-pj.com)。



五、關于廣西科毅光通信科技有限公司

科毅光通信專注于光開關及光通信器件的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售,產(chǎn)品涵蓋硅基光開關、MEMS 光開關、集成光模塊等全系列解決方案。公司依托自主研發(fā)的低串擾、低功耗光開關核心技術,為全球客戶提供高性能、高可靠的光網(wǎng)絡核心器件,廣泛應用于數(shù)據(jù)中心、5G 通信、光纖傳感等領域。

 選擇合適的光開關是一項需要綜合考量技術、性能、成本和供應商實力的工作。希望本指南能為您提供清晰的思路。我們建議您在明確自身需求后,詳細對比關鍵參數(shù),并優(yōu)先選擇像科毅光通信這樣技術扎實、質量可靠、服務專業(yè)的合作伙伴

如需獲取該硅基光開關的詳細技術參數(shù)、樣品申請或合作咨詢,歡迎訪問官網(wǎng)www.m.rise-pj.com,或聯(lián)系技術支持團隊。